notícias da empresa sobre Cartuchos de filtro de lama CMP para fabricação de semicondutores

Um cartucho de filtro de lama CMP é um elemento de filtragem de alto desempenho usado no processo de polimento químico-mecânico de fabricação de semicondutores. A pasta CMP geralmente contém partículas abrasivas, aditivos químicos, oxidantes, estabilizantes e outros componentes funcionais. Seu objetivo é obter remoção controlada de material e planarização da superfície em wafers.

Comparada com água ultrapura ou filtração química geral, a filtração de lama CMP é mais complexa. O filtro deve remover partículas superdimensionadas, aglomerados, géis e contaminação sem remover as partículas abrasivas úteis que são necessárias para o desempenho do polimento.

Portanto, a filtração CMP não se trata simplesmente de escolher a menor classificação em mícron. Um cartucho de filtro CMP adequado deve equilibrar o controle de partículas, a estabilidade da lama, o desempenho do fluxo, a queda de pressão e a compatibilidade do processo.

Nos processos CMP, a distribuição do tamanho das partículas está intimamente relacionada à qualidade do polimento. Se partículas ou aglomerados superdimensionados entrarem no sistema de polimento, eles poderão causar arranhões no wafer, defeitos superficiais, taxa de remoção instável ou perda de rendimento.

Ao mesmo tempo, se o filtro estiver muito apertado ou não for adequado para a lama, ele poderá remover partículas abrasivas úteis, alterar as propriedades da lama, aumentar a queda de pressão ou reduzir a vida útil do filtro.

Os principais objetivos da filtração de lama CMP incluem:

• Remoção de partículas e aglomerados superdimensionados.
• Reduzindo o risco de arranhões durante o polimento do wafer.
• Manter a distribuição estável de partículas de lama.
• Protegendo bombas, válvulas, bicos e ferramentas de polimento a jusante.
• Suporta desempenho de polimento consistente e estabilidade do processo.

A seleção do material do filtro depende da química da pasta, tipo de abrasivo, valor de pH, componentes oxidantes, vazão e requisitos de limpeza.

• Cartuchos de filtro UPE são comumente usados ​​em lama de alta pureza e filtração química eletrônica devido ao seu baixo teor de extraíveis, boa limpeza e desempenho estável de retenção de partículas.
• Cartuchos de filtro PP pode ser usado para pré-filtração de polpa ou sistemas de polpa menos agressivos. Os materiais PP proporcionam bom controle de custos e ampla compatibilidade em muitas aplicações de líquidos industriais e eletrônicos.
• Cartuchos de filtro PESpode ser selecionado para certas aplicações de pasta à base de água onde são necessários um bom desempenho de fluxo e eficiência de filtração estável.
• Cartuchos de filtro PTFE pode ser considerado para ambientes químicos especiais que exigem maior resistência química.

Em aplicações reais de CMP, o meio filtrante, a camada de suporte, o núcleo, a gaiola, a tampa e o material de vedação devem ser avaliados em conjunto para evitar problemas de compatibilidade ou contaminação secundária.

A precisão da filtragem de lama CMP depende do tipo de lama e do objetivo do processo. Diferentes processos CMP podem exigir diferentes níveis de filtração. Algumas aplicações concentram-se na remoção de grandes partículas e aglomerados, enquanto outras requerem um controle mais preciso de contaminantes submicrométricos.

No entanto, tamanhos de poros menores nem sempre são melhores. Se o filtro reter muitas partículas abrasivas normais, isso poderá alterar a concentração efetiva de partículas da pasta e afetar o desempenho do polimento. Se o filtro estiver muito aberto, partículas muito grandes poderão passar e aumentar o risco de arranhões.

Por esse motivo, a seleção do filtro CMP deve considerar tanto a classificação de filtração quanto o comportamento real da lama, incluindo distribuição de tamanho de partícula, viscosidade, vazão, queda de pressão e vida útil do filtro.

Os cartuchos de filtro CMP podem ser usados ​​em diferentes pontos do sistema de fornecimento de polpa.

• Filtragem de produção de lama
  Usado durante a fabricação ou preparação de pastas para remover partículas grandes indesejadas e melhorar a consistência do produto.
• Filtragem de circuito de distribuição
  Usado em sistemas de circulação de polpa para controlar partículas geradas durante armazenamento, bombeamento ou transporte.
• Filtragem no ponto de uso
  Instalado próximo às ferramentas CMP para fornecer controle final de partículas antes que a pasta atinja a almofada de polimento ou a superfície do wafer.
• Filtragem de proteção do lado da ferramenta
  Usado para proteger bicos, válvulas e linhas de distribuição contra bloqueios causados ​​por aglomerados ou resíduos de processo.

Um sistema de filtragem bem projetado pode usar filtragem escalonada para reduzir gradualmente a carga de partículas e proteger os filtros finais de alta precisão.

A filtração CMP requer uma avaliação cuidadosa do desempenho do filtro e da estabilidade da pasta.

• A primeira preocupação é o controle de partículas. O filtro deve remover com eficácia partículas e aglomerados superdimensionados que podem causar defeitos no wafer.
• A segunda preocupação é a compatibilidade da pasta. O filtro não deve alterar significativamente a distribuição útil das partículas abrasivas.
• A terceira preocupação é a queda de pressão. A queda excessiva de pressão pode afetar a estabilidade do fornecimento de lama e aumentar a carga do sistema.
• A quarta preocupação é a compatibilidade química. O material do filtro deve corresponder à química da pasta e às condições operacionais.
• A quinta preocupação é a limpeza. Baixo teor de extraíveis, baixo desprendimento de partículas e fabricação limpa são importantes para aplicações de semicondutores.
• A sexta preocupação é a vida útil. O filtro deve fornecer operação estável sem bloqueios frequentes ou substituição prematura.
• A sétima preocupação é a confiabilidade da vedação. Qualquer vazamento de bypass pode reduzir a eficácia da filtração e aumentar o risco do processo.

A Pullner fornece soluções de cartucho de filtro para filtração de lama CMP e aplicações de alta pureza relacionadas a semicondutores. Os meios filtrantes disponíveis incluem UPE, PP, PES, PTFE, Nylon, PVDF e outros materiais de acordo com diferentes requisitos de processo.

A Pullner pode ajudar os clientes na seleção de filtros CMP adequados com base no tipo de lama, posição de filtração, vazão, pressão, temperatura, alvo de controle de partículas, modelo de filtro existente, desenhos ou amostras.

Para clientes que enfrentam contaminação por partículas de lama, alta queda de pressão, vida útil curta do filtro, desempenho de polimento instável ou necessidades de substituição de filtros importados, a Pullner pode ajudar a analisar as condições de trabalho e recomendar uma solução de filtragem adequada.

Os cartuchos de filtro de lama CMP desempenham um papel importante nos processos de polimento de semicondutores. Seu objetivo não é apenas remover partículas, mas também manter a estabilidade da pasta e reduzir os riscos de defeitos no wafer.

Um filtro CMP adequado deve equilibrar a remoção de partículas, compatibilidade de lama, queda de pressão, desempenho de fluxo, limpeza e vida útil.

A Pullner está comprometida em fornecer soluções de cartucho de filtro de polpa CMP confiáveis, econômicas e personalizadas para clientes de semicondutores em todo o mundo.