Filtro em caixa de retenção de sujeira alta fluido de polimento série CMA
Visão geral do produto
O cartucho de filtro de fluido de polimento da série CMA com alta retenção de sujeira foi projetado para a filtração de partículas a granel e colóides em processos de óxido CMP, tungstênio CMP e cobre CMP.
Esta série usa tratamento gradiente e um design exclusivo de tamanho de poro gradual. O tamanho dos poros diminui gradualmente de fora para dentro, permitindo que grandes partículas e aglomerados sejam capturados enquanto partículas úteis de polimento podem passar. Esta estrutura ajuda a melhorar a eficiência da filtragem, aumentar o espaço de retenção de sujeira, reduzir o entupimento e prolongar a vida útil do filtro.
Com construção totalmente em polipropileno, baixa precipitação, ampla compatibilidade química e classificações de mícron opcionais de 0,1 μm a 90 μm, a Série CMA é adequada para diferentes requisitos de filtragem de líquidos de polimento.
Principais recursos
Estrutura de filtragem gradiente
O tamanho dos poros do meio filtrante diminui gradualmente de fora para dentro. Esta estrutura ajuda a reter partículas grandes e a liberar partículas de polimento eficazes, proporcionando uma área de filtragem efetiva maior e maior capacidade de retenção de sujeira.
Baixa precipitação
O cartucho é feito totalmente em PP e produzido sem adesivos ou surfactantes. Isso ajuda a reduzir os riscos de precipitação e lixiviação durante a filtração.
Ampla compatibilidade química
A estrutura de polipropileno oferece boa compatibilidade química e é adequada para filtração de vários líquidos de polimento e fluidos de processo.
Classificações e interfaces múltiplas de mícrons opcionais
Classificações de mícron de 0,1 μm a 90 μm estão disponíveis para atender a diferentes requisitos de processo de polimento. Diferentes comprimentos e tipos de interface também podem ser personalizados para uso com diferentes carcaças de filtro.
Especificações Técnicas
| Item | Especificação |
|---|
| Série de produtos | Série CMA |
| Tipo de produto | Cartucho de filtro de retenção de alta sujeira para fluido de polimento |
| Meio filtrante | Polipropileno PP |
| Gaiola / Núcleo / Tampas finais | Polipropileno PP |
| Estrutura | Estrutura de filtragem de tamanho de poro gradiente |
| Classificação de mícron | 0,1 μm – 90 μm |
| Aplicação Principal | Filtragem de líquido de polimento, filtração de pasta CMP |
| Temperatura máxima de operação | 70°C |
| Pressão Diferencial Operacional Máxima | 4 bar a 21°C; 2,4 bar a 70°C |
| Construção | Estrutura totalmente PP, sem adesivos, sem surfactantes |
| Personalização | Classificação de mícron, comprimento, tipo de tampa final e tipo de interface podem ser personalizados |
Informações sobre pedidos
| Série | Mícron | Comprimento | Tipo de tampa final | Material de vedação |
|---|
| CMA | 0010=0,1μm 1000=10μm 0050=0,5μm
0100=1,0μm 4000=40um
0150=1,5um 0200=2,0μm 7000=70μm
0500=5,0μm 9000=90μm | 10 = 10"
20=20"
30=30
40=40" | C3=222/Fin
C5=222/Plano
C9 = DOE | E=EPDM V=Viton |
Indústrias recomendadas
| Indústria | Aplicativo |
|---|
| Semicondutor | Óxido CMP, tungstênio CMP, filtração de pasta CMP de cobre |
| Fabricação de Eletrônicos | Filtragem de líquidos de polimento e controle de partículas |
| Processamento de wafer | Filtragem de processo CMP |
| Exibição/FPD | Filtração de fluido de polimento de precisão |
| Tratamento de superfície de precisão | Partículas em massa e remoção de colóides |
Vantagens do produto
Comparado com cartuchos de filtro PP comuns, a Série CMA é especialmente projetada para polir filtração de líquidos e lamas CMP. Sua estrutura de filtração gradiente ajuda a capturar partículas grandes enquanto mantém componentes de polimento eficazes no líquido.
A alta capacidade de retenção de sujeira pode reduzir o bloqueio, prolongar a vida útil e diminuir a frequência de substituição do filtro. A estrutura totalmente livre de adesivo PP também ajuda a controlar a precipitação e melhorar a limpeza do processo.
Suporte e Serviços
Fornecemos suporte técnico abrangente para instalação, operação e manutenção, incluindo orientações sobre substituição de filtros e recomendações de manutenção. A documentação completa inclui manuais do usuário, guias de instalação e notas para solução de problemas.
perfil de companhia
Shanghai Pullner Filtration Technology Co., Ltd. foi fundada em maio de 2011 com um capital social de 26 milhões de RMB. A empresa opera uma oficina de sala limpa Classe 100.000 (3.000 m²) e um laboratório limpo Classe 1.000 no local, integrando P&D, fabricação e vendas de equipamentos de filtração por membrana microporosa e sistemas de filtração.
Os produtos Pullner são amplamente aplicados em microeletrônica, química fina, novas energias, dessalinização de água do mar, biotecnologia e campos de laboratório, incluindo painéis LCD, processamento de semicondutores, produtos químicos de alta pureza, filtragem de condensado e reutilização de água recuperada.
A empresa possui certificados ISO9001 / ISO14001 / ISO45001, é reconhecida como uma empresa de alta tecnologia e possui múltiplas patentes. Pullner também é um fornecedor aprovado da Saudi Aramco.
Perguntas frequentes
Q1: Quem é o fabricante e a marca?
A1: Fabricante: Shanghai Pullner Filtration Technology Co., Ltd. / Marca: Pullner.
Q2: Você pode fornecer amostras?
A2: Sim. Podemos fornecer 1-2 amostras grátis para avaliação. Os compradores cobrem apenas o frete. (Amostras grátis normalmente são suportadas para pedidos formais futuros.)
Q3: Qual é o prazo de entrega?
A3: Geralmente 5-10 dias úteis, dependendo da quantidade do pedido.
Q4: A classificação de filtração é nominal ou absoluta?
A4: Os produtos padrão são nominais. Filtros com classificação absoluta podem ser personalizados com base na sua aplicação.
Q5: Quais marcas seus filtros podem substituir?
A5: As substituições compatíveis incluem grandes marcas como PALL, 3M, PARKER e outras.
Q6: Qual é o MOQ?
A6: MOQ padrão é 1 peça (direto da fábrica). Para certos modelos ou especificações personalizadas, o MOQ pode variar.
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